發布時間:2024-04-22 發布者:
微電子工業應用了一種外延工藝,該工藝包括在納米層中沉積元素,形成一種特殊的晶體結構。該技術中應用最廣泛的元素之一是砷。在運行過程中,砷污染擴散到整個工藝設備、生產區域(潔凈室、空調)以及行政區域。
CURIUM對受砷污染的潔凈室(2 000平方米)、一個儲存車間(300平方米)和設備(280噸)進行了去污染。
采樣計劃和污染閾值已經確定。已經制定了基于不同類型表面的去污染方法。CURIUM公司負責設計在無塵室和不可呼吸的環境中(存在砷和磷)以及含磷設備上的去污染作業。
CURIUM團隊對廢物進行了包裝或移除運輸,并跟蹤確保了廢物在國外的運輸以及最終處置。